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JSSC 2006第5期Other

Characterization Design Modeling and Model Validation of Silicon on-Wafer MN Bal

本文提出了一种基于几何可扩展集总元件方法的硅射频集成电路设计中M:N巴伦的表征与建模方法。
模型验证通过测量S参数和提取阻抗
硅射频集成电路巴伦建模方法趋肤效应衬底损耗
创新点1:几何可扩展集总元件建模方法,该方法通过几何参数实现模型的可扩展性,适用于不同尺寸的硅基RFIC设计,显著提高了建模的灵活性和准确性。
创新点2:包含趋肤效应和衬底损耗的建模,通过综合考虑高频下的趋肤效应和衬底损耗,提升了模型在高频条件下的精度,适用于复杂RFIC环境。
创新点3:图案化接地屏蔽的影响分析,首次在模型中引入图案化接地屏蔽的效应,为硅基RFIC设计提供了更全面的电磁兼容性优化方案。
创新点4:模型验证与实测数据匹配,通过实测S参数和阻抗数据验证模型准确性,确保模型在实际应用中的可靠性,匹配和不匹配条件下的性能均得到验证。
Abstract
In this paper, we characterize and model M:N baluns for silicon RFIC design. A modeling methodology is presented based on a geometrically scalable lumped-element approach that incorporates both skin effect and substrate loss. This approach is extended to include the effects of a patterned ground shield under the balun. The modeling approach is validated with measured S-parameters and extracted impedances from various circuit configurations. The impedance transfer characteristics of the model and