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JSSC 2009第9期mm-Wave0.13微米

013 22m SiGe BiCMOS Technology Fully Dedicated to mm-Wave Applications Grégory A

介绍了一种专为毫米波应用设计的0.13微米SiGe BiCMOS技术
230/280 GHz
SiGe BiCMOS毫米波HBTMIM电容器双栅氧化物MOS晶体管
创新点1:高速SiGe HBT技术,采用完全自对准(FSA/SEG)架构和选择性SiGeC基极外延,实现了230/280 GHz的高fT/fmax性能,显著提升了毫米波应用的频率响应和噪声性能。
创新点2:厚铜后端设计,优化了传输线和电感器的性能,通过增加铜层厚度降低了电阻损耗,提高了高频信号传输的效率和品质因数(Q值)。
创新点3:高线性MIM电容器,具有2 fF/μm²的高密度和50的高线性度,适用于高精度模拟电路和射频前端设计,显著改善了信号处理的线性度和稳定性。
创新点4:互补双栅氧化层MOS晶体管,提供了灵活的电压控制和低功耗特性,适用于混合信号和射频电路设计,进一步扩展了技术的应用范围。
Abstract
ine Troillard, Nicolas Loubet, Julien Bouvier, Linda Depoyan, Nicolas Derrier, Michel Buczko, Cédric Leyris, Samuel Boret, Sébastien Montusclat, Alain Margain, Sébastien Pruvost , Member , IEEE, Sean T. Nicolson , Student Member , IEEE, Kenneth H. K. Yau, Student Member , IEEE, Nathalie Revil, Daniel Gloria, Didier Dutartre, Sorin P. V oinigescu, Senior Member , IEEE, and Alain Chantre , Senior Member , IEEE Abstract—This paper presents a complete 0.13 m SiGe BiCMOS technology fully dedicated t