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JSSC 2014第10期Other0.25μm InP HBT

Introduction to the Special Section on the 2013 Compound Integrated

2013年化合物集成电路研讨会精选论文,展示化合物半导体技术的最新进展。
80 GHz, 100 mW/200 mW, PAE >30%
化合物半导体功率放大器InP HBT高频电路功率组合
创新点1:80 GHz功率放大器性能记录 - 采用0.25μm InP HBT工艺实现创纪录的80 GHz功率放大器性能,单级和两级2:1组合器分别达到100 mW和200 mW输出功率,功率附加效率(PAE)超过30%,展示了高频高功率应用的突破性进展。
创新点2:新型串联功率组合方法 - 提出一种创新的串联连接功率组合技术,有效吸收器件寄生参数并实现低插入损耗,为高频功率放大器的设计提供了新的架构思路,显著提升了系统整体效率。
创新点3:低插入损耗寄生参数吸收 - 通过优化电路设计,实现了对器件寄生参数的高效吸收,同时保持极低的插入损耗,这一技术解决了高频电路中常见的寄生效应问题,为毫米波集成电路设计提供了重要解决方案。
创新点4:高效率功率-DAC架构 - 采用45nm CMOS SOI工艺实现的高数据率2×2 IQ发射器,利用创新的功率-DAC架构,可构建可扩展阵列,演示了44 Gbps的操作速度,输出功率达12 dBm,整体能效低于7.5 pJ/b,为高速无线通信系统提供了新设计范例。
Abstract
AL OF SOLID-STATE CIRCUITS presents highlights from the 2013 Compound Integrated Circuits Symposiu m (CSICS) held in Monterey, CA, USA, on October 13–16, 2013. This was the 35th anniversary of CSICS and the conference continues to serve as a focal point for compound semiconductor integrated circuits and devices, embracing advances in device technology and circuit appli- cations related to GaAs, InP , GaN, SiGe, and more recently CMOS and 2-D crystal device technology. The future of com- pound se