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JSSC 2015第4期Other

A System Based on Capacitive Interfacing of CMOS With Post-Processed Thin-Film M

提出基于电容耦合和同步读出的CMOS与薄膜MEMS谐振器接口方案,提升高频谐振峰检测能力。
>20 dB SNR
薄膜MEMS谐振器CMOS接口电容耦合同步读出高频谐振
创新点1:电容耦合跨CMOS钝化层接口方案(方法创新)。该方案通过电容耦合实现MEMS与CMOS之间的信号传输,有效隔离了CMOS芯片与可能损坏的传感环境,同时减少了高频寄生效应的影响,提升了信号传输的可靠性。
创新点2:基于同步读出的检测方法(电路创新)。该方法采用同步检测技术,显著提高了高频谐振峰的检测灵敏度,使得在信噪比(SNR)大于20 dB的条件下能够检测到微弱或直接无法检测的谐振峰。
创新点3:高频谐振峰检测能力提升(系统创新)。通过优化接口和检测方法,系统能够在高频(大气压下)条件下稳定工作,解决了高频寄生效应导致的谐振峰检测难题,展示了高频MEMS谐振器的实际应用潜力。
创新点4:低温(175°C)后处理薄膜MEMS谐振器集成(工艺创新)。该技术允许在CMOS IC上低温加工薄膜MEMS谐振器,避免了高温工艺对CMOS电路的损害,同时实现了高灵敏度传感器的系统集成。
Abstract
Thin-film MEMS resonators fabricated at low tem- peratures can be processed on CMOS ICs, forming high-sensitivity transducers within complete sensing systems. A key focus for the MEMS devices is increasing the resonant frequency, enabling, among other benefits, operatio n at atmospheric pressure. How- ever, at increased frequencies, parasitics associated with both the MEMS-CMOS interfaces and the MEMS device itself can severely degrade the detectability of the resonant peak. This work attempts to