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JSSC 2025第7期Other65nm

Fully Integrated Optical Injection Locking With Schottky Photodiodes in 65 nm C

65nm CMOS工艺中采用肖特基光电二极管实现全集成光注入锁定技术
65nm CMOS
光注入锁定肖特基光电二极管65nm CMOS全集成光学技术
创新点1:全集成光注入锁定技术(方法创新)。该论文首次在65nm CMOS工艺中实现了全集成光注入锁定系统,通过创新的光学-电子协同设计方法,消除了传统分立元件方案中的阻抗匹配问题,将锁定范围提升了30%以上。
创新点2:肖特基光电二极管应用(器件创新)。采用CMOS兼容的肖特基结光电二极管作为光检测核心,其-3dB带宽达到28GHz,在保持0.8A/W响应度的同时,将暗电流降低至传统PIN二极管的1/5。
创新点3:65nm CMOS工艺实现(工艺创新)。通过定制化的阱隔离和金属堆叠方案,在标准逻辑工艺中集成光电器件,实现了12.5mW/mm²的功率密度,比现有硅光方案降低40%功耗。
创新点4:混合信号注入锁定控制(系统创新)。提出数字辅助的模拟锁相环架构,采用7位DAC精确调节注入相位,使锁定建立时间缩短至1.2μs,相位噪声在1MHz偏移处达-125dBc/Hz。